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PVD真空鍍膜

PVD真空鍍膜

  • 所屬分類:PVD真空鍍膜
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2019-12-09
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

    目前常用的PVD有三種:真空蒸鍍、濺射鍍膜、和離子鍍。它們的工作原理如下:

    

    1.真鍍空膜是在1.33x10^-3至1.33x10^-4Pa的壓力下,用電子束等熱源加熱材料使之蒸發,蒸發的原子或分子直接在工件表面形成沉積層。

    

    2.濺射pvd真空鍍膜:是不采用蒸發技術的物理氣相沉積方法。施鍍時,將工作室抽成真空,沖入氬氣做為工作氣體,并保持其壓力為0.13至1.33Pa。

    

PVD真空鍍膜


    3.離子鍍:是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或蒸發物質離子化,在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下,吧蒸發物質或其他反應物蒸鍍在工件上。

    

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