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PVD真空鍍膜廠家

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  • 所屬分類:PVD真空鍍膜
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2019-12-09
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

    PVD即物理氣相沉積,是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基材上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點,特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優點。

    

     采用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設備,及在此基礎之上與國際專家的工藝創新。憑借在裝飾鍍行業十多年的寶貴經驗,為客戶提供最適合的涂層加工方案。

    

PVD真空鍍膜


    PVD真空鍍膜的屬性

    ?金屬外觀 顏色均勻一致 耐久的表面,在各種基本的空氣和直射陽光環境條件下永遠保持良好外觀。顏色深韻、光亮。

    ?經濟,可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。使用一塊軟布和玻璃清潔劑即可清潔干凈PVD膜層。

    ?對環境無害,避免化學中毒和VOC的散發。

    

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